Un article issu d’une collaboration entre les équipes Théorie de la Matière Condensée, Peking University, Beijing University of Technology et National Center for Nanoscience and Technology Beijing a fait l’objet d’une publication dans la revue Nature Communication (16 septembre 2026). L’article présente une méthode pour éviter le décollement de couches métalliques ultrafines déposées sur des substrats de silice. Le dépôt de couches métalliques ultrafines est une étape centrale en micro-électronique et la méthode proposée impliquant le dépôt d’une couche de graphène permet d’envisager des procédés innovants dans le domaine des nanotechnologies.
Référence de l’article :
Van der Waals epitaxy suppresses thermal rupture in ultrathin metals
Wenxiang Wang, Jiaxing Wang, Guotong Wang, Zhichao Yin, Chenxiao Jiang, Siqin Zhou, Chuanli Yu, Jianhao Chen, Kun Zheng, Thomas Salez, Xiaoding Wei & Zhaohe Dai
Nature Communications (2026)